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时钟发生器内建诊断电路电子电话电路模拟乘法器电荷耦合器件
电荷耦合成象器件电荷注入器件电荷引发器件电荷转移器件电压控制雪崩振荡器
斗链器件固体电路环形振荡器恢复电路图象抑制混频器
可编程横向滤波器视频处理器视频信号处理电路数字用户线滤波器用户专线接口滤波路
正常关断器件正常开启器件自恢复自举驱动电路升压高电平时钟发生器自举电容器
电荷耦合器件延迟线带式自动键合封装单元尺寸地址存取时间电荷泵
集成度开关电容器轻掺杂漏极技术逻辑摆幅门传输延迟
模拟能力母片保护环冗余技术软失效率
扇入扇出刷新周期双列直插式封装闩锁效应
位线芯片尺寸虚设单元页分段模式页模式
无源元件有源元件预充电周期语音网络噪声容限
周期时间转换率字线伴随模型按比例缩小
标准单元法波形松弛法场氧化层衬底偏置短沟效应
多元胞法埃伯斯-莫尔模型符号布图法工艺模拟根梅尔-普恩模型
简约关联矩阵结点分析法漏极电导逻辑模拟门阵列法
宏单元仿真器任意单元法时序模拟模型参数提取
窄沟效应分级设计法电路提取存储电容计算机辅助设计
计算机辅助测试计算机辅助制造布图规则检查自动布局布线启发式布线
自动布图设计系统积木式布图系统交互式布图系统晶片衬底
主平面次平面切片清洗双面研磨
直径研磨抛光化学机械抛光化学抛光机械抛光
电抛光离子束抛光二氧化硅乳胶抛光吸杂本征吸杂工艺
损伤吸杂工艺损伤感生缺陷容错离子镀离子束镀
射频离子镀离子束淀积离子束外延离子团束淀积离子团束外延
薄膜淀积低压等离子体淀积淀积率成核增密工艺
针孔冷壁反应器热壁反应器气相质量转移系数界面反应率常数
表面反应控制台阶覆盖二氧化硅热氧化干氧氧化
湿氧氧化水汽氧化减压氧化高压氧化等离子体氧化
选择氧化生长率正硅酸乙酯石英反应室石墨承热器
阳极氧化法加热合成氧化技术氧化增强扩散氧化掩模氧化层陷阱电荷
氧化感生缺陷氧化感生堆垛层错界面陷阱电荷隔离工艺等平面隔离
外延隔离介质击穿介质隔离平面工艺等平面工艺
自隔离自对准隔离工艺静电保护静电放电损伤溅射
直流溅射等离子体溅射射频溅射磁控溅射共溅射
反应溅射真空蒸发反应蒸发离子束蒸发电子束蒸发
共蒸发元素靶复合靶离子轰击薄栅氧化层
迪尔-格罗夫模型氮氧化硅多晶硅-硅化物栅多孔硅氧化隔离硅化物
二硅化物硅栅硅栅自对准工艺钼栅工艺难熔金属硅化物
扩散预扩散自扩散外扩散双扩散
间隙扩散替位扩散选择扩散掩蔽扩散场助扩散
箱法扩散闭管真空扩散液态源扩散气态源扩散空位流
扩散控制扩散工艺掺杂自掺杂掺杂剂
选择掺杂光掺杂中子嬗变掺杂杂质浓度杂质扩散
掺杂多晶硅扩散掺杂氧化物扩散表面浓度浓度剖面分布余误差函数分布
结深扩展电阻浅结工艺发射区陷落效应埋层
图形发生器离子源离子注入离子注入机沟道效应
射程分布深度分布投影射程阻止距离阻止本领
标准阻止截面退火激活能等温退火激光退火
应力感生缺陷择优取向制版工艺图形畸变初缩
精缩母版铬版干版乳胶版
透明版高分辨率版超微粒干版掩模掩模对准
对准精度光刻胶负性光刻胶正性光刻胶无机光刻胶
多层光刻胶电子束光刻胶刷洗甩胶涂胶
后烘光刻x射线光刻电子束光刻离子束光刻
深紫外光刻光刻机投影光刻机曝光接触式曝光法
接近式曝光法光学投影曝光法电子束曝光系统分步重复系统显影
线宽去胶氧化去胶等离子体去胶边缘效应
刻蚀干法刻蚀反应离子刻蚀各向同性刻蚀各向异性刻蚀
反应溅射刻蚀离子铣等离子体刻蚀钻蚀剥离技术
终点监测金属化互连多层金属化电迁徙
回流磷硅玻璃硼磷硅玻璃钝化工艺多层介质钝化
划片电子束切片烧结印压热压焊

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