abbr. PPR
misc. positive photoresist ; positive image material
紫外正性光刻胶 ultraviolet positive photoresist
远紫外正性光刻胶 deep ultraviolet positive photoresist
正性胶光刻 positive resist lithography
正性电子束光刻胶 positive electron beam photoresist
正性小分子光刻胶 positive micromolecule photosensitizer
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
通过对光刻工艺过程的研究，可为较好地控制正性光刻胶面形，制作微机械、微光学器件提供了参考依据，对微浮雕结构的深刻蚀具有重要的指导意义。
We can better control the positive photoresist figure, provide a reference for making MEMS and MOEMS, it is of an important instructional significance for deep relief of micro structure.
youdao
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，最常见的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
详细内容
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动