光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
Several typical terahertz systems were presented as well as the photolithography process of the sample fabrication.2, The first work is the closed-ring pair metamaterial.
展示了工作中用来对样品进行测量的太赫兹时域光谱系统,和用于制作样品的传统光刻技术。
参考来源 - 太赫兹奇异介质研究Different baking condition and thickness of photoresist result in different photoresist characteristic parameters.
本文对BN303-30光刻胶展开光刻实验,不同的光刻胶厚度和烘培条件都会导致不同的光刻胶特性参数。
参考来源 - （100）、（110）硅片湿法各向异性腐蚀特性研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
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