电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。电子束曝光系统（electron beam lithography system）即用于实现电子束曝光的系统。
... 电子束加热 electron beam heating 电子束曝光系统 electron beam exposure system 电子束引示显像管 beam indexing tube ...
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... Refers to an e-beam evaporator or exposure system. 指电子束蒸发器或曝光系统。 E-beam Evaporation 电子束蒸发 E-beam Exposure System 电子束曝光系统 ...
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...系99 级 王莹 本文首先介绍了北京大学最新引进的聚焦离子束纳米工作站(FIB)、台湾清华大 学的电子束曝光系统(E-beam Lithography)，阐述了其结构、工作原理，以及 操作使用方法。
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... 为继续摩尔定3960;，在此期间，与微电子领域相关的微/纳加工技术得到了飞速发展 电子束曝光系统（electron beam lithography, EBL）是一种利用电子束在工件面上 [摘要] 本发明公开了一种电子束熔炼设备，该电子束熔炼设备包括有电...
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为满足纳米级电子束曝光系统的要求，设计了高速图形发生器。
The high speed Patten Generator is designed for nanometer E-beam lithography system.
本文扼要介绍了电子束直写圆片的原理，地形标记的识别，以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术。
In this paper, the principle of electron beam write wafer is discussed briefly distinguish topography mark, and make the technology of wafer mark which is found by the electron beam exposure system.
介绍了将商用透射电镜JEM - 2000 EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作，在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验。
The research work about modifying a commercial transmission electron microscope (JEM-2000EX) into a lithography system is introduced, and the experiments are carried out on this system.
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