在真空环境下，通入适当的惰性气体作为媒介，靠惰性气体加速撞击靶材，使靶材表面原子被撞击出来，并在表面形成镀膜。
vi. sputter
misc. sputtering coating
本发明涉及一种高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置。
The invention relates to a device for improving utilization rate of a high vacuum ion beam sputtering target material.
本发明涉及一种阳极板及一种包括所述阳极板的溅镀装置。
The present invention relates to a kind of anode plate and its sputtering apparatus.
本发明提供一种焊接溅镀靶材以形成一大的溅镀靶材的方法。
Embodiments of the invention provide a method of welding sputtering target tiles to form a large sputtering target.
应用推荐