超高真空离子束 溅镀法 ( UHV IBS )的溅镀原理和薄膜成长机制与直流磁控溅镀有许多相似的地方,不同处在于溅射过程中高能离子的来源不是用阴极辉光放电(Cathode Glo...
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Hata [3] 等以氧化铅块材置于锆钛合金上，以反应性 磁控溅镀法 (reactive sputtering) 制备薄膜。而由靶材 上氧化铅块材所占的面积比例来控制薄膜中铅的含 量。
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短语
子束溅镀法
Ion Beam Sputtering Deposition
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IBSN
频溅镀法
Radio Frequency Sputtering
射频溅镀法
Radio Frequency Sputtering
离子束溅镀法
Ion Beam Sputtering