...平面显示器到一般的玻璃表面涂层， 物理溅镀 (Physical Vapor Deposition) 的 应用愈来愈普遍， 溅镀靶材 (Sputtering Targets) 这种高附加价值的功能性材 料之使用量也就逐年增加， 在庞大市场的诱因之下， 许多溅镀靶材之制造厂家 早已投入可观之研发经费...
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本发明涉及一种高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置。
The invention relates to a device for improving utilization rate of a high vacuum ion beam sputtering target material.
本发明提供一种焊接溅镀靶材以形成一大的溅镀靶材的方法。
Embodiments of the invention provide a method of welding sputtering target tiles to form a large sputtering target.
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