在真空环境下,通入适当的惰性气体作为媒介,靠惰性气体加速撞击靶材,使靶材表面原子被撞击出来,并在表面形成镀膜。
vi. sputter
misc. sputtering coating
本发明涉及一种高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置。
The invention relates to a device for improving utilization rate of a high vacuum ion beam sputtering target material.
本发明涉及一种阳极板及一种包括所述阳极板的溅镀装置。
The present invention relates to a kind of anode plate and its sputtering apparatus.
本发明提供一种焊接溅镀靶材以形成一大的溅镀靶材的方法。
Embodiments of the invention provide a method of welding sputtering target tiles to form a large sputtering target.
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