直流溅射是指利用直流辉光放电产生的离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术。直流溅射装置主要由真空室、真空系统和直流溅射电源构成。
... 阴极溅射;cathode sputtering 直流溅射;direct current sputtering 溅射镀;sputtering deposition ...
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关键词 磁控管 溅射率 非平衡磁控溅射 闭合场非平衡磁控溅射 自溅射 213 直流溅射 ( DC Magnetron Sputtering ) 、射频溅 射( RF Magnetron Sputtering) 、脉冲溅射 ( Pulsed Magnetron Sputtering) 和中频溅射 ( Medium Fre2 quency Magnet...
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热阴极直流溅射 hot cathode direct current sputtering
直流溅射电源 DC sputtering power source
直流溅射镀膜 DC sputtering deposition
直流反应磁控溅射 DC reactive magnetron sputtering
直流磁控反应溅射 DC magnetron reactive sputtering
直流磁空溅射 DC magnetic sputter
直流磁控溅射 DC magnetron sputtering
直流磁控溅射法 DC-reactive magnetron sputtering
多弧直流磁控溅射 multi-arc dc magnetron sputtering
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介绍一种大功率直流溅射恒流电源的设计。
本工作表明使用贫氧靶材直流溅射制备的高阻透明氧化锌薄膜可以应用于薄膜太阳能电池并有效地降低其成本。
This letter demonstrates that the insulating ZnO films can be deposited by DC sputtering from oxygen-deficient ZnO targets to lower the cost of thin film solar cells.
首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。
The new concept of the vacuum pipe sputter self-coating is introduced first, and special cathode target structure is introduced to get favorable coating.
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