Advance a series of parameters to support mask making, process, package and test.
提出工程中要求的一系列参数支持制版、流片、封装和验证。
The necessing of expansion processing for CIF format files in mask making is demonstrated.
阐述对CIF 格式文件进行展开处理在制版工作中的必要性;
Electron beam lithography machine is the key instrument for mask making and research of nanometer device.
电子束曝光技术是掩模版制作和纳米器件研究的主要手段。
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