高k材料由氮氧化铪硅（HfSiON）制造，它能够简单地利用氖离子植入形成，并利用较早的制造工艺对钛氮化物层进行最小限度的处理。
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氧氮化铪硅 HfSiON
氮氧化硅铪 HfSiON
氮氧化铪硅
Silicon hafnium nitride
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