数介电层是由氧化铪(HfO2)、氮氧化硅铪(HfSiON) 或氧化硅铪(HfSiO) 等材料来完成的单 层或多层结构。
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氮氧化铪硅 HfSiON
氧氮化铪硅 HfSiON
氮氧化硅铪
Hafnium silicate nitride
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