... Electroless Nicklecooper 铜件镀镍 electroless deposition 化学淀积 ; 化学镀 ; 无电沉积 ; 化学沉积 electroless processing 化学淀积 ...
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化学镀（Electroless deposition）是1 944年由Brenner和Riddell发明的，这种方法一经面世就被发现拥有许多的优点：成本相对较低，工艺操作简单易行，生产能力较高，...
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1．2．2无电沉积法（Electroless deposition） 又称化学沉积（chemical deposition）或化学镀，是通过化学还原在模板孔道或表面沉积金属以制备纳米材料的方法。
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ag electroless deposition 化学镀ag
Electroless deposition rate 化学沉积速率
pulsed electroless deposition 脉冲化学镀过程
electroless deposition nickel 化学镀镍
surface electroless deposition 高温退火处理
electroless deposition technique 化学镀技术
First, metal coating on the surface of diamond film has been studied. Deposited experiments have been done by multi-arc ion plating and electroless deposition.
本文首先对金刚石膜表面镀膜进行了研究，并采用多弧离子镀和化学镀的方法进行镀膜实验。
参考来源 - 电火花抛光CVD金刚石膜研究In this thesis, two kinds of electrochemical deposition technologies, which were electroless deposition (belongs to the research filed of electrochemistry) and electrodeposition, were used to separate, analyse and determine some metal ion in a complex solution.
本硕士学位论文主要就两种电化学沉积技术—化学镀(也叫无电沉积，属电化学研究领域)和电沉积应用于分离、分析、测定混合溶液中某一特定金属离子进行了研究。
参考来源 - 化学镀与电沉积技术在分离化学中的应用研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
This study is significant to surface treatment of substrate in electroless deposition.
该研究对于化学镀基底材料的表面处理具有重要意义。
By varying the electroless deposition time, inner diameter of the tube can be controlled.
通过改变化学沉积的时间，管的内径可以调变。
An electroless deposition technique on carbon fiber with higher copper deposition rate and stability was presented.
提出了一种有较高沉铜速率和稳定性的碳纤维化学镀技术。
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