气相沉积技术 是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。
...放电为基础的等离子体技术，以其自身的优越性已经广泛应用于材料加工、表面改性、表面刻蚀、磁控溅射镀膜和化学气相沉积（PEVCD）等科学研究及应用领域。特别是近年来在合成高质量和稳定的微晶硅薄膜（肛一Si：日），用氢稀释甲烷或乙烯用于碳的合成，进一步合...
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材料导报网-氮化钛薄膜在装饰材料中的应用 关键词 氮化钛薄膜 装饰材料 气相沉积 [gap=655]Key words TiN thin films, finishing material, vapor deposition
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物理气相沉积 physical vapor deposition ; pvd ; PEPVD ; MFPVD
化学气相沉积 CVD ; chemical vapor deposition ; PECVD ; MPCVD
化学气相沉积法 CVD ; Chemical Vapor Deposition ; chemical vaporous depositon ; MPCVD
金属有机化学气相沉积 MOCVD ; Metal organic chemical vapor deposition ; metal organic Chemical Vapor Phase Deposition
低压化学气相沉积 LPCVD ; Low Pressure CVD ; low-pressure chemical vapor deposition
物理气相沉积法 PVD ; physical vapor deposition ; physical vaporous deosition ; chemical vaporous depositon
有机金属化学气相沉积 Metal-organic Chemical Vapor Deposition ; OMCVD
常压化学气相沉积 APCVD ; Atmospheric Pressure CVD
热丝化学气相沉积 HWCVD ; HFCVD ; hot filament chemical vapor deposition ; Hot Wire Chemical Vapor Deposition
. In this paper, chemical vapor deposition (CVD) with simple equipment, low cost and easy operation was adopted.
本文中实验均采用设备简单、成本低廉、操作容易的化学气相沉积法(APCVD)。
参考来源 - GaN纳米材料的CVD制备与研究Now Physical Vapor Deposition mainly includes heat evaporation, sputtering and ion plating.
物理气相沉积技术目前主要有热蒸发、溅射、离子镀等方式。
参考来源 - 等离子体束溅射镀膜机研制及工作机理研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
研究所用的碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法合成的。
The carbon nanotubes were synthesized by the heat filament chemical vapor deposition.
实验中所用碳纳米管由化学气相沉积法(CVD)合成。
The carbon nanotubes were synthesized by the heat filament chemical vapor deposition (CVD).
薄膜的制备方法包含很多，主要有化学气相沉积，物理气相沉积和其他一些独特的制备方法。
There are a lot of methods in producing films, including CVD, PVD and some other special methods.
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