高电浆密度化学气相沈积(HDPCVD) 制程以广泛被应用于内连线介电层的制程。高密度电浆源采用感应线圈电浆(ICP) 式设计,具备了对气体源的高解离率与相较一般电浆辅...
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应用材料公司是化学气相沈积（chemicalvapordeposition，CVD）和测试设备供货商，而AppliedFilms在显示器彩色过滤系统领域是主要的厂商，并具有开发大面积P...
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(四)化学气相沈积(CVD)制程 化学气相沈积(Chemical Vapor Deposition, CVD)是制造微电子元件时，被用来沈积某 种薄膜(film) 的技术， 所沈积出的薄膜可能是介电材料(die...
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大气压化学气相沈积 atmospheric pressure CVD
低压化学气相沈积 low pressure CVD
化学气相沈积真空腔体 Chemical Vapor Deposition Vacuum Chamber
及化学气相沈积 Chemical Vapor Deposition ; CVD
利用化学气相沈积法 Chemical Vapor Deposition
有常压化学气相沈积法 APCVD
常压化学气相沈积法 Atmospheric-pressure CVD
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