高苑技术学院电子工程系杨耀升 - docin.com豆丁网 学气相沈积法(PECVD) 4.光反应式化学气相沈积法(PHCVD) 高苑技术学院电子工程系杨耀升 常压化学气相沈积法（APCVD，Atmospheric pressure CVD） 在气压接近常压下进行CVD反应的一种沈积方 式，此法的沈积速度极快，约为600-1000奈米 /分
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有常压化学气相沈积法 APCVD
常压化学气相沈积法
Atmospheric pressure chemical vapor deposition method
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