Based on new wet etching conditions and a novel convex corner compensation design, a silicon mold with smooth etched surface and perfect convex corner was obtained. Then a PMVS(polymethylvinylsilanxoin) microchip wassuccessfully made with molding technology.
首先,在第一部分中,基于一种新的湿法腐蚀条件和凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对n型单晶(100) Si材料进行了湿法刻蚀,获得了表面平整和凸角完整的刻蚀结果,制作了用于微模塑工艺的硅基阳模,并成功地制作了聚甲基乙烯基硅氧烷(polymethylvinylsilanxoin,PMVS)微分析芯片。
参考来源 - 基于硅材料与玻璃的微分析芯片制作技术的研究·2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress
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