... litho 光刻 lithographic equipment 光刻装置 lithographic imagery 光刻成象 ...
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直写式电子束光刻装置 direct write electron beam system
提出了一种用于光刻装置的对准系统。
A novel alignment system is presented for lithographic apparatus.
对准方法，对准基底，光刻装置和器件制造方法。
Aligning method, aligning substrate, photoetching device and component manufacturing method.
光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件。
Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby.
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