...段时间的抛光后，表面变得光滑，甚至形成釉面，恶化的抛光垫表面会降低抛光过程的材料去除率(MRR)，同时增大片内非均匀性(WIWNU)。因此，需要使用 金刚石修整器对抛光垫进行修整，使抛光垫达到所需的粗糙度，恢复其使用性能。
基于36个网页-相关网页
晶片内不均匀性(WIWNU) 的有效方法。
基于28个网页-相关网页
为了保持可接受的晶圆内非均匀性（WIWNU）和抛光垫或抛光垫组使用寿命期间的缺陷性，也需要适当的修整时间间隔。
基于16个网页-相关网页
...赵亚东;刘玉岭;栾晓东;牛新环;王仲杰 研究了铜化学机械抛光(CMP)过程中,不同压力和非离子型表面活性剂对片内非均匀性(WIWNU)的影响。通过改变抛光压力大小和非离子型表面活性剂浓度,得出WIWNU的变化规律。
基于8个网页-相关网页