目前正在研究使用有机色素的一大优势--旋压覆盖(Spin coat)法成膜。另外，由于只需使用记录膜便可以获得Blu-ray规格的反射率，省略了通常在记录膜下方设计的金属反射膜。
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接着在其上面，采用旋压覆盖法(Spin Coat)涂上P(VDF-TrFE)，形成100nm厚的强介电体层。进而在强介电体层上，再用图印方式在PEDOT：PSS上形成电极。
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Spin Coat Method 及旋压覆盖法
spin-coat 旋转涂布
The chemical is widely used in the production of LSI, VLSI and other semiconductors to remove photoresist edge bead that occurs during typical spin coat wafer processing.
该试剂用于清除匀胶后残留于硅片边缘及背面的光刻胶，已经广泛应用于中、大规模集成电路及其它半导体器件的生产。
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