5) 相偏移光罩(phase shift mask)： 此方法主要由IBM的M. D.
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摘 要： 相移掩模（Phase Shift Mask）在实际使用过程中,往往会因为保护膜沾污、损坏或者因为掩模结晶（Haze）等问题需要返回掩模工厂进行重新贴膜。
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...起制造困难 减小光波长λ 开发新光源, PR和设备 波长减小的极限：UV到DUV, 到EUV, 到X-Ray 减小K1 相移掩膜（Phase shift mask）
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... 称作相位转换函数 phase transfer function 相位转换光罩 Phase Shift Mask 相位转换函数 phase transfer function ...
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alternating-aperture phase-shift mask 交变孔径相移光罩
Phase-shift mask 相移掩模
alternating phase shift mask 相移掩模
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Therefore, a new approximation model for alternating phase shift mask considering shadowing effects was proposed in this paper, and shadowing ratio was redefined.
因此本文针对交替式相移掩模，提出了一种考虑阴影效应的近似模型。
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