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phase shift mask

  • 相移掩模:一种用于光刻过程中改善图案分辨率和过程窗口的掩模技术,通过在掩模上引入相位延迟来实现。

专业释义

  • 移相掩膜

·2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress

双语例句

  • Therefore, a new approximation model for alternating phase shift mask considering shadowing effects was proposed in this paper, and shadowing ratio was redefined.

    因此本文针对交替式掩模,提出考虑阴影效应近似模型

    youdao

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- 来自原声例句
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