一种新的计算光刻算法将来自检测系统的透射与反射图像转换为实际光罩图案的模型表示，包括图案缺陷(pattern defects)。这个关键的第一步要求使用高分辨率的透射与反射光图像来对高精度的光罩图案进行建模。
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flow pattern defects 流动图形缺陷
Shanghai pattern effects and defects 上海模式的成效与缺陷
pattern defects
模式的缺陷
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