本文将CZ硅单晶片在Secco腐蚀液中择优腐蚀后,用光学显微镜和原子力显微镜对流动图形缺陷(flow pattern defects, FPDs)在硅片中的形态、分布及其端部的微观结构进行了仔细地观察和研究,并讨论了腐蚀时间对FPDs缺陷端部结构...
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