本课题采用微波电子回旋共振(MWECR)等离子体装置,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体,氩气为载体,氧气为反应气体,在PET基材上进行了氧化硅薄膜的沉积研究。
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用等离子体化学气相沉积(PECVD)、磁过滤阴极电弧沉积(FCVA)、微 波电子回旋共振(MwEcR),均能实现有较多高能离子的沉积离子流。考虑到 在si衬底上添加有一层有机层,在本论文研究中采用了后两种方法。
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MWECR-CVD 微波电子回旋共振等离子体CVD ; 微波电子回旋共振化学气相沉积
MWECR CVD 等离子体化学气相沉积
HW-MWECR-CVD 微波电子回旋共振化学气相沉积
MWECR CVD deposition system MWECRCVD系统
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