四、刻速率（Etching Rate）： 四、刻速率（Etching Rate）： 1、刻速率是衡量刻液在某刻相搭配，于的操作件下位 1、刻速率是衡量刻液在某刻相搭配，于的操作件下位 的能力。
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文章摘要信息 关键词 ： 激光技术 垂直腔面发射激光器 湿法腐蚀 腐蚀速率 [gap=922]Key words laser technique; VCSEL; wet etching; etching rate
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ratio of etching rate 蚀刻速率比
Bulk etching rate 基体蚀刻速率
local etching rate 定域蚀除率
average etching rate 平均刻蚀速率
etching rate modeling 刻蚀速率模型
normalized etching rate 归一化刻蚀速率
etching rate coefficient 腐蚀速率常数
ion beam etching rate 离子束刻蚀速率
Where, the concentration of the solutions, bias voltage, illumination, process temperature and magnetic field have been explored to the pore diameter, etching rate, surface morphology and final reachable depth.
由于宏多孔硅的所有性质包括孔径、腐蚀速率、表面形貌和腐蚀深度受到阳极氧化条件的影响。 这些条件包括HF浓度、腐蚀电压、光照条件、环境温度和外加磁场等。
参考来源 - 应用于微纳机电器件制造的电化学深刻蚀技术·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
With the increase of flow of the gas, the etching rate decreases continually.
随着气体流量的增加，刻蚀速度不断降低。
If the RF power, pressure are continued to increase, the etching rate decrease.
再继续增加射频功率、压力，刻蚀速率反而会下降。
The etching rate can be strictly controlled by adjusting technological conditions.
通过调整工艺条件，可严格控制刻蚀速率。
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