降解的低压化学汽相淀积（LPCVD）氧化物，使用硅烷和四乙基原硅酸盐（TEOS）作为源，已经研究在高场强下强调制备。
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low pressure chemical vapor deposition
...Low Pin Count 少管脚数量 Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低压化学汽相淀积 A chemical vapor deposition process that takes place at moderate temperatures. 一种化学汽相淀积过程，发生在适度的温度下。
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