低压化学气相沉积法(LPCVD)生长的掺硼氧化锌(BZO)是一种可大规模工业化生产的高雾度透明导电膜,很适合应用于薄膜光伏太阳能电池的前电极或背电极。
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降解的低压化学汽相淀积(LPCVD)氧化物,使用硅烷和四乙基原硅酸盐(TEOS)作为源,已经研究在高场强下强调制备。
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LPCVD growth LPCVD生长
LPCVD生长 LPCVD growth
lpcvd d 低压化学汽相淀积
LPCVD Low-Pressure Chemical Vapor Deposition 低压化学气相沉积
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Based on a theoretical model for LPCVD, computer simulation of PECVD polysilicon films has been performed by employing the concept of "electron temperature".
在LPCVD理论模型基础上,通过引进“电子温度”,对PECVD多晶硅膜进行了计算机模拟分析。
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