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dry etch
美 [draɪ etʃ]

  • 干法刻蚀：一种在半导体制造过程中使用的刻蚀技术，通过在真空或气体环境中使用化学气体或等离子体来去除材料表面的部分层。

网络释义专业释义

短语

Dry-Etch 干法腐蚀

plasma dry etch 等离子刻蚀

dry etch technique 干法刻蚀

  • 干法刻蚀 - 引用次数：5

    With the rapid development on fabrication of Integration Circuit Technology, Dry Etch has become one of the most major technology on the patterned etch.

    随着集成电路制造技术的迅猛发展,干法刻蚀技术,早已在特征图形形成方面,成为最主要的工艺技术之一。

    参考来源 - 金属刻蚀工艺开发与评价

·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress

双语例句

  • An epitaxial deposition process including a dry etch process, followed by an epitaxial deposition process is disclosed.

    本发明提供一外延沉积工艺，其包含干式蚀刻工艺与后续的外延沉积工艺。

    youdao

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