所述陈化方法包括以下步骤：在操作等离子体设备执行等离子体工艺前、测量在等离子体设备的工艺室中出现的基于硅氧化物(SiOX)的化学物种的光发射强度与基于碳氟化物化合物(CFY)的化学物种的光发射强度的比；确定所测量的光发射强度比的值是否在正常状态的预...
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微芯片制作采用了硅、硅氧化物以及金等生物相容性较好的材料。
The micro chip was fabricated with silicon, silicon dioxide and gold.
以硅、二氧化硅为原料，采用水热沉积法制备了球状纳米硅氧化物。
Spherical nanoscale silicon oxide have been prepared by hydrothermal deposition process using silicon and silica as the starting materials.
通过对XPS图的分析得到硅氧的原子比大约是1：1，这个结果表明对薄膜进行退火后氧化硅薄膜是富硅氧化物。
Analysis by XPS graph obtained silicon atom ratio of oxygen is about 1:1, the results showed that the films were annealed silicon oxide film is rich silicon oxide.
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