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PVD Physical Vapor Deposition 物理气相沉积 ; 物理汽相沉积
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Physical Vapor Deposition Line 及先进导线连接等应用的物理气相沉积产品线
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By contrast, the physical vapor deposition.
与之相对的是物理气相沉积。
Uses: sputtering target, physical vapor deposition, high temperature alloys.
溅射靶材、物理气相沉积、高温合金。
The simulation of physical vapor deposition by Monte Carlo method using a new physical model is presented in this paper.
运用蒙特卡罗方法，模拟了不同条件下的物理气相淀积薄膜生长过程。
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