TFT-LCD面东Array段制程设备在四代厂以下，均是使用旋转涂布方式是将光阻剂均匀涂布在玻璃基东之上，旋转涂布(Spin Coating)的制程原理，是利用旋转玻璃基东之离心力甩开光阻剂，以达到涂布之均匀度良好之特性。依原生光.
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对0.5%的聚合物溶液（80%甲苯和20%四氢呋喃）进行旋转涂布（spin-coated），并随后经过持续时间为24小时、温度为60℃的软烤来生成厚度为25nm（标称值）的薄膜。
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旋转涂布机 Spin Coater
旋转涂布法 spin-on ; Spin Coating Method
以旋转涂布 spin Coating
将通过采用无旋转涂布 Spinless Coating
旋转漆膜涂布器 centrifugal barrel finishing applicator
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