细制程几何拓扑结构(process geometries)挑战的全新特点,包括: 考虑了应变矽影响,包括井邻近效应(Well Proximity Effect, WPE)以及浅沟槽隔离(Shallow Trench Isolation, STI) 支持标准的代工厂综合...
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包括井邻近效应 Well Proximity Effect
井邻近效应
Well proximity effect
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