细制程几何拓扑结构(process geometries)挑战的全新特点，包括： 考虑了应变矽影响，包括井邻近效应（Well Proximity Effect, WPE）以及浅沟槽隔离（Shallow Trench Isolation, STI） 支持标准的代工厂综合...
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包括井邻近效应
Including well proximity effect
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