曾获轻工部科技进步二等奖一项(96)、北京市科技进步二等奖两项(95, 2001)、受国家科委表彰一次(1991, 因"75"期间为国家高技术研究与发展计划作出重大贡献"), 并曾获863计划先进工作者称号(1996), 冶金部全国先进教育工作者称号(1986)。
已培养博士8名, 硕士13名, 在读博士5人, 硕士4名。出站博士后3名, 在站1名, 曾指导外国留学生3名。历年来承担并完成了包括国家863计划"85"和"95"重大计划项目("金刚石膜制备关键设备研制"和"大面积高光学质量金刚石膜制备、加工及应用关键技术研究")、部委和厂协项目在内的十几项科研项目。研究方向为高技术薄膜材料与技术, 包括CVD金刚石膜、类金刚石膜(DLC)、b-C3N4, 以及其它硬质薄膜和装饰膜。目前的研究主要聚焦在:大面积光学级金刚石自支撑膜制备、加工及其在军事和民用光学领域的应用; CVD金刚石膜涂层硬质合金工具; 纳米金刚石膜及其高技术应用等。