本文采用低压高频等离子浸没离子注入及氮化技术(HLPIII)对工业纯铁进行表面处理,进一步利用非平衡磁控溅射技术(UBMS) 在氮化的工业纯铁上制备了Ti/TiN多层膜,研究了复合处理后材料的机械性能以及抗腐蚀性能。
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非平衡磁控溅射技术
Non-equilibrium magnetron sputtering technology
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利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨非晶碳膜。
Graphitelike carbon film was deposited on silicon substrates by unbalanced magnetron sputtering.
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