与传统方法相比,脉冲激光沉积法(PLD)作为一种新型技术,具有诸多优势,尤其由于离化率高、离子动能大等特点,制备的无氢DLC膜具有更高的表面硬度和化学稳定性,适用于更为...
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...激光沉积法制备纳米金刚石薄膜 第一节 脉冲激光沉积反应实验的实验装置 本实验是采用脉冲激光沉积法（pulsed laser deposition，PLD）在高真空氧气氛围下，制各纳米金刚石薄膜。
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采用脉冲激光沉积法 Pulsed Laser Deposition ; PLD
用脉冲激光沉积法 Pulse laser deposition
飞秒脉冲激光沉积法 femtosecond Pulse Laser Deposition
将飞秒脉冲激光沉积法 femtosecond Pulse Laser Deposition
并采用脉冲激光沉积法 Pulsed laser deposition
STO薄膜采用脉冲激光沉积法(PLD)制备。
多种工艺可以用来制备透明导电薄膜，如磁控溅射真空反应蒸发、化学气相沉积、溶胶-凝胶法以及脉冲激光沉积等。
Many processes are used to prepare transparent conductive films, such as magnetron sputtering, vacuum reactive evaporation, chemical vapor depositions, Sol-gel, laser-pulsed deposition.
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