等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法，分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。
电镀处理,但电镀却是不环保的,降低金属表面粗糙度、钛、铝合金:对于工件表面的油污、等离子体化学气相沉积(简称PCVD),只需将金属零件浸入到化学抛光液中至表面光亮如新即可完成工艺。化学抛光处理,镀银等;电镀包括(镀锌、磷化处理):(发黑处理。
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以镍为催化剂，利用微波等离子体化学气相沉积法制备了弹簧状碳纤维。
Under the catalytic effect of nickel particles, spring-like carbon filaments were synthesized through microwave plasma chemical vapor deposition.
为快速沉积高品质金刚石膜，建立了热阴极等离子体化学气相沉积方法。
Hot cathode chemical vapor deposition method was established in order to deposit high-quality diamond films with high deposition rate.
利用微波等离子体化学气相沉积(CVD)设备，在硅基片上进行了金刚石薄膜的沉积实验。
The experiment of the deposition of diamond thin films is made on silicon substrate by using microwave plasma chemical vapor deposition (CVD) system.
等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法，分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。
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