磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁） 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。
1 NdFeB永磁薄膜的制备方法1.1磁控溅射法磁控溅射法(magnetron sputtering)是NdFeB永磁薄膜最常用的制备方法之一,其制备原理是在高真空充入适量氩气,经阴极和阳极所加的高直流电压(约几百千伏)的作用,在溅...
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...学法两大类，干法包括真空蒸发、气相沉积（物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（cvD））、溅射（射频磁控溅射法（RF Sputtering）、等离子体溅射）以及离子镀等方法，N．Y：Kimd等【l】通过磁控溅射法制备得到TiNz-Si02双层抗静电薄膜。
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③磁控溅射法(Magnetron Sputter Plating)连年来，磁控溅射妙技一向是海内涂层业的重点成长标的目的，先后呈现了非平衡磁控溅射妙技、磁控溅射加救援离子源妙技等，可制备...
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对使用磁控溅射法沉积的钨薄膜进行了热退火研究。
We employ the magnetic sputtering method to deposit amorphous tungsten films and investigate their thermal annealing process.
用射频磁控溅射法在阳极氧化铝模板表面制备了金属铝膜。
Metal aluminum films were deposited on AAO templates by radio-frequency magnetron sputtering.
采用磁控溅射法制备锰铜薄膜，溅射和真空蒸发法制备镱薄膜。
Thin film manganin gages and ytterbium gages were fabricated by magnetron sputtering.
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