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1986年，我们共同设计制造程序自动控制真空氮化设备和研究真空脉冲氮化工艺。
In 1986 we designed the procedure auto-control vacuum nitriding furnace and studied the pulse vacuum nitriding processes.
LDMC系列离子渗氮(氮化)设备由LD、LDMC系统电源和真空炉体构成。
LD, LDMC series Ion nitrogen (NOx) equipment from the LD, LDMC system power vacuum furnace and pose.
氮化铁薄膜形成后，在真空中进行热处理。
A heat treatment is carried out in vacuum after the formation of the thin film.
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