...罩，以CF4 / SF6 +O2 作为反应气体， 在石英上蚀刻出宽度为100 nm，深度为600 nm之 沟槽，以制作相位移光罩(Phase Shifting Mask)。
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... photo mask basic 光罩原理英文版 photo-shift mask 相位移光罩 Photo Mask Processing 光罩制程 ...
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相位移光罩
Phase shift mask
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