2-2-2 直流辉光放电(DC glow discharge) 在溅镀方面最早采用的是直流放电法，这种放电现象是在一具有相对两电极 的真空室中施以低压气体(约在0.1Torr~1.0Torr之间)，而后...
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本文介绍用直流辉光放电装置制备非晶硅薄膜。
Amorphous silicon films were fabricated with a dc glow discharge system.
它由真空主抽气系统、抽气偏滤器、直流辉光放电清洗系统组成。
It consists of the main pumping system, pumping divertor and glow discharge cleaning (GDC) system.
采用蒙特卡罗方法对氦直流辉光放电平板电极等离子体阴极鞘层内电子的输运过程进行了研究。
The electron transport process in cathode sheath of helium dc glow discharge is studied by using Monte Carlo simulation.
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