电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。 光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳米量级，从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题，纳米压印术应运而生。 电子束曝光在半导体工业中被广泛使用于研究下一代超大规模集成电路。
电子束曝光 （electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是 光刻技术的延伸应用。
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EBE ： 电子束曝光 ( Electron Beam Exposure ) 机械专业英语词汇(E)-机电工程-词汇中心-VOE.
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...反射（DBR）激光器类型。这些大范围可调谐激光器都是基于光栅进行选模的，光栅的制作需要高精度的制作工艺，如电子束曝光（EBL）；同时光栅的掩埋对二次外延的要求也非常高。
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电子束曝光器 electron beam exposure system ; electron beam aligner ; electron beam exposer ; ebes
电子束曝光机 electron beam exposure apparatus ; electron beam exposure equipment ; E-beam lithography machine ; electron beam lithography
电子束曝光系统 [电子] [摄] electron beam exposure system ; E-beam Exposure System ; E-Beam Lithography ; electron beam lithography
可变电子束曝光装置 variable shaped electron beam exposure system
多重电子束曝光系统 multiple electron beams exposure system
低能电子束曝光 Low-energy electron beam lithography
电子波束曝光系统 electron beam exposure system
电子束液态曝光技术 Electron Beam Liquid Lithography
电子束扫描曝光机 scanning-electron-beam lithographic system
·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验。
The proximity effect in the E-beam lithography system was verified by experiments.
可变矩形电子束曝光机的基本曝光图形是矩形。
The elementary exposure pattern of a variable rectangular electron beamexposure machine is a rectangle.
可变矩形电子束曝光机的基本曝光图形是矩形。
The elementary exposure pattern of a variable rectangular electron beam exposure machine is a rectangle.
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