位移比不满足时的调整方法: (2)热阴极法(Hot Cathode Plating).源于Bahers的技术, 主要用于TiN等薄膜的制备.
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热阴极法
Hot cathode method
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直流热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积法是我们建立的快速沉积高品质金刚石膜的新方法。
Direct current hot cathode plasma glow discharge chemical vapor deposition (DC-HCPCVD) is a new method to deposit high quality diamond films with high growth rate.
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