（1）热丝化学气相沉积法(HFCVD) 在多种金刚石薄膜的生长方法中，热丝化学气相沉积法（HFCVD）是成 功制备金刚石膜最早的方法之一，也是目前相当成熟的一种化学气...
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等离子增强化学 气相沉积法（PECVD）和热丝化学气相沉积法（HWCVD）作为主要的制备手段 ， 反应源气体采用 SiH4 和 GeH4，其工艺与传统的制备微晶硅材料方法差 别 不 大 。
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... 热丝化学气相沉积法(HFCVD or HWCVD) 等离子体化学气相沉积法(PECVD) 电子回旋共振化学气相沉积法(ECR-CVD) ...
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本文采用热丝化学气相沉积法(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD),在具有复杂形状的硬质合金整体式铣刀表面沉积了一层均匀、光滑的金刚石薄膜,并采用石墨以及碳化硅铝基增...
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采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜。
Polycrystalline silicon thin films were prepared by hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD) on glass at low-temperatures.
采用热丝化学气相沉积法在覆盖c _(60)膜的硅基片上沉积金刚石膜，研究了金刚石膜的成核与生长。
In this paper, the diamond films were grown on the C_ (60) -coated silicon substrate by using hot-filament chemical vapor deposition technique. The diamond nucleation and growth were studied.
本工作利用热丝化学气相沉积(HFCVD)法获得了(100)取向不同质量的金刚石薄膜，并制备了CVD金刚石辐射探测器。
In present work, (100) oriented CVD diamond films with different quality obtained by a hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD) technique were used to fabricate radiation detectors.
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