iGrapher 结合了两者的优点，既具有掩膜图形生成的方便 灵活性、又具有支持灰度光刻（grayscale lithography）、干涉光刻（interference lithography）的纳结构 快捷光刻的性能。
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数字灰度光刻 Digital gray-tone lithography
灰度光刻
Grayscale lithography
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通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率，经一次光刻后得到所需的衍射光学元件。
A variable transmittance is provided to different position on grayscale mask plane and the required diffractive optical elements can be obtained after one-time exposure.
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