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本文研究了对向靶溅射薄膜的成核机理。给出了在薄膜的生长初期基板上的岛密度随生长条件（如沉积时间、基板温度）的变化。
This paper studies the nucleation mechanism of the target-facing sputtering, and the variation of island-density with such parameters as deposition time and substrate temperature.
摘要：钼溅射靶材以溅射薄膜方式被消耗，钼合金薄膜是目前信息存储、集成电路芯片、特别是平板显示器、薄膜太阳能电池、蓝宝石制造等行业中必不可少的关键材料。
Abstract: Molybdenum alloy thin film is the key material in the information storage, integrated circuit chip, especially flat panel display, thin film solar cell and sapphire manufacture.
从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性。
The thickness uniformity of films deposited by planar magnetron sputtering target was analyzed theoretically.
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