...分子束外延 (Molecular Beam Epitaxy,MBE)、 脉冲激光沉积(Pulsed Lased Deposition, PLD)和 各种 溅射沉积(Sputter Deposition) 化学沉积方法主要包括 化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition, CVD)， 化学溶液沉积(Chemical Solution Deposition)， 电化学...
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...sputtering deposition; amorphous phase; layer structure; solid solubility; Vegard law [gap=24604]关键词： Cu−W薄膜；溅射沉积；非晶相；层状结构；固溶度；Vegard规则 ...
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（2）溅射沉积（RFS and MS） 溅射沉积是工业上最常用的制备DLC膜的工艺，与离子束沉积方式有所不同的是这种DLC膜的制备无需复杂的离子源，利用射频振荡或磁场...
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...向与基底法线方向一致而使具有高原子迁移速率的αW 快速侧向生长成多晶膜,图 6所示为 W源垂直溅射沉积(NISD)和倾斜溅射沉积(OASD)的生长示意图。研究表明:在溅射初期,Si 基片表面同时形成αW纳米岛和βW纳米岛。
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It is studied that influences of changes in cavity pressure on the structure and performance of thin film when other process parameters are not changed during sputtering deposition.
研究了在溅射沉积过程中,改变腔体气压对所制备的薄膜结构及性能的影响。
参考来源 - 溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
本文介绍了等离子增强磁控溅射沉积技术。
This article presents an introduction to Plasma enhanced, magnetron sputtered deposition Technology.
利用脉冲激光溅射沉积pzt压电陶瓷薄膜。
This paper reports an investigation on PZT films by pulsed laser deposition.
激光烧蚀溅射沉积薄膜技术是一项新的固体薄膜制造技术。
The fabricating technique of thin solid films deposited by pulsed laser ablating spray is a new technique.
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