化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。
...MATIC HIGH VACUUM OPTICAL COATER) 全自动高真空光学镀膜系统/韩志强 薄膜制程中最常用的方法即为气相沉积法(VAPOR DEPOSITION)，亦即使材料或化合物气化后，沉积在相 对低温的基板上，而使制程于真空中的产生,则在于下列目 的： 1.
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3.2.2 等离子体化学气相沉积法 等离子体化学气相沉积法(PVCD)是一种借助等离子体使含有薄膜组成原 子的气态物质发生化学反应，在基板上沉积薄膜的方法，特别适合于半导体薄 膜和化合物薄膜的...
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化学气相沉积法 CVD ; Chemical Vapor Deposition ; chemical vaporous depositon ; MPCVD
物理气相沉积法 PVD ; physical vapor deposition ; physical vaporous deosition ; chemical vaporous depositon
热丝化学气相沉积法 HFCVD ; HWCVD ; HFCVD or HWCVD ; Hot filament chemical vapor deposition
低压化学气相沉积法 LPCVD ; Low Pressure CVD ; Low Pressure Chemical Vapor Deposition
常压化学气相沉积法 APCVD ; Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
改进的化学气相沉积法 MCVD
热化学气相沉积法 Thermal CVD ; thermal chemical vapor deposition ; HCVD ; TCVD
热壁物理气相沉积法 Hot-Wall PVD ; Wall PVD
化学气相沉积法是最可行的方法。
所用的碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法合成的。
Carbon nanotubes in experiments were synthesized by hot filament chemical vapor deposition.
研究所用的碳纳米管是用热灯丝化学气相沉积法合成的。
The carbon nanotubes were synthesized by the heat filament chemical vapor deposition.
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