掺杂剂再分布 dopant redistribution
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所注入的掺杂剂在硅层中具有第一掺杂剂分布。
The implanted dopant has a first dopant profile in the silicon layer.
youdao
又掺杂剂在膜表面分布均匀程度与掺杂时间有关。
The spread uniformity of the dopant in the film surface will vary with the doping time.
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