他们在1959年借着平面制程（Planar process）达成了目标。平面制程技术后来成为制造晶体管和集成电路的基础方法，并且也被认为是自晶体管发明后最重要的半导体技术发明。
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而IBM芯片制造技术联盟中的另一个重要成员三星则最近公布了其20nm制程技术的有关消息，这种制程技术也是基于平面型体硅CMOS。
Samsung Electronics Co. Ltd., one of the members of IBM's "fab club" or technology alliance, recently rolled out its 20-nm process, which is based on bulk CMOS.
作者利用ANSYS有限元分析软件对一个平面桁架模型进行了模态分析，并用APDL语言编制程序计算该结构的柔度差值曲率。
ANSYS is used to make the modal analysis of a plane truss structure model, then APDL is used to compile procedures to calculate flexibility difference curvature.
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